Технология производства микроэлектронных устройств

В книге дана общая характеристика производства микроэлектронных устройств, сформулированы общие требования к производству. Описаны основные технологические методы и процессы, такие как механическая обработка, очистка поверхности подложек, фотолитография, метод свободной маски, рентгеновская и электронная литография, методы получения пленок, эпитаксия, диффузия, ионное легирование. Разобраны типовые технологические процессы изготовления биполярных и МДП-микросхем, тонкопленочных и толстопленочных микросхем. Рассмотрены процессы сборки, герметизации, вопросы обеспечения качества и эффективности, а также тенденции дальнейшего развития микроэлектроники.